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本发明提供了一种电平位移器、半导体器件及其制备方法。该电平位移器中通过在至少一个隔离掺杂区内设定调整区域,该调整区域可形成有凹槽或者该调整区域还可以是非注入区,使得隔离掺杂区内的整体离子量降低,有利于降低隔离掺杂区被横向耗尽的难度,提高电平...该专利属于中芯先锋集成电路制造(绍兴)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯先锋集成电路制造(绍兴)有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种电平位移器、半导体器件及其制备方法。该电平位移器中通过在至少一个隔离掺杂区内设定调整区域,该调整区域可形成有凹槽或者该调整区域还可以是非注入区,使得隔离掺杂区内的整体离子量降低,有利于降低隔离掺杂区被横向耗尽的难度,提高电平...