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本发明公开了一种具有均布生长功能的MPCVD设备，属于金刚石生长技术领域。本发明包括机座，所述机座上设置有生长室，所述生长室上安装有燃烧器，生长室的内壁中设置有主线圈，所述燃烧器与含碳气体源相连接，燃烧器与生长室之间设置有若干个进气管，燃烧...
该专利属于上海铂世光半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海铂世光半导体科技有限公司授权不得商用。

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