温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本公开涉及一种旋转修正挡板机构和磁控溅射镀膜设备，所述旋转修正挡板机构用于调整磁控溅射镀膜膜层均匀性，其包括挡板本体，该挡板本体包括固定杆(1)和沿该固定杆(1)的长度方向布置的旋转挡片(2)，其中，至少所述旋转挡片(2)能够围绕所述固定杆...
该专利属于东旭科技集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东旭科技集团有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。