旋转修正挡板机构和磁控溅射镀膜设备制造技术

本公开涉及一种旋转修正挡板机构和磁控溅射镀膜设备，所述旋转修正挡板机构用于调整磁控溅射镀膜膜层均匀性，其包括挡板本体，该挡板本体包括固定杆(1)和沿该固定杆(1)的长度方向布置的旋转挡片(2)，其中，至少所述旋转挡片(2)能够围绕所述固定杆(1)长度方向的中心轴线转动。根据镀膜的实时情况，通过调节旋转挡片的转动角度，来相应调节挡板本体的遮挡区域，以此来实现在真空状态下对于膜层均匀性进行实时调整。进行实时调整。进行实时调整。

【技术实现步骤摘要】
旋转修正挡板机构和磁控溅射镀膜设备


[0001]本公开涉及薄膜
，具体地，涉及一种旋转修正挡板机构和磁控溅射镀膜设备。

技术介绍

[0002]目前市场上，车载盖板玻璃镀膜工艺以ARAF为主导，而且车载盖板玻璃需要整面镀膜，而磁控溅射镀膜由于具有良好的工艺可控性和长时间的工艺稳定性而被广泛应用于大面积溅射镀膜领域。
[0003]在镀膜过程中，通常需要用到修正挡板来调整膜层厚度的均匀性，而现有的修正挡板的结构都是固定形状，而固定形状的挡板只能够单一范围的进行镀膜保护，使用范围有限，因此针对车载盖板玻璃形状的多种多样，导致修正挡板的形状也多种多样，在设备保养或型号切换时，都需对均匀性进行重新确认。但是，磁控溅射镀膜设备需要在真空下进行，因此需要破真空才能对修正挡板进行调整，调整后再关闭腔室、抽真空、烧靶，待腔室真空度、靶材完全稳定后才能重新镀制膜层材料，不仅膜层均匀性调整时间长，而且如若真空度、靶材状态不稳定会直接影响膜层均匀性调整结果。
[0004]专利技术内内
[0005]本公开的目的是提供一种旋转修正挡板机构，以能本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种旋转修正挡板机构，用于调整磁控溅射镀膜膜层均匀性，其特征在于，包括挡板本体，该挡板本体包括固定杆(1)和沿该固定杆(1)的长度方向布置的旋转挡片(2)，其中，至少所述旋转挡片(2)能够围绕所述固定杆(1)长度方向的中心轴线转动。2.根据权利要求1所述的旋转修正挡板机构，其特征在于，所述旋转挡片(2)由多个条形挡片(21)构成，多个所述条形挡片(21)相互拼接为一体，每个所述条形挡片(21)均能够围绕所述固定杆(1)长度方向的中心轴线转动。3.根据权利要求1所述的旋转修正挡板机构，其特征在于，所述旋转挡片(2)的最大转动角度不小于90
°
。4.根据权利要求1所述的旋转修正挡板机构，其特征在于，所述旋转挡片(2)沿垂直于所述中心轴线的方向长度可调地连接到所述固定杆(1)。5.根据权利要求1所述的旋转修正挡板机构，其特征在于，所述旋转修正挡板机构还包括用于驱动所述固定杆(1)转动的驱动机构，所述驱动机构与所述固定杆(1)连接，且所述旋转挡片(2)安装到所述固定杆(1)上。6.根据权利要求1所述的旋转修正挡...

【专利技术属性】
技术研发人员：李青，李赫然，刘春元，刘晓东，罗靖，何小明，吕先跃，张亚莉，
申请(专利权)人：东旭科技集团有限公司，
类型：发明
国别省市：