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本发明涉及一种真空处理方法，其特征在于：布置至少两个可执行工艺处理的工位，使工件可在所述工位之间切换；当所述工件位于所述工位内时使所述工位独立且封闭而后在所述工位上对所述工件执行该对应的工艺处理；完成后，解除所述工位的封闭以使所述工件可移动...
该专利属于光驰科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光驰科技（上海）有限公司授权不得商用。

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