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一种自适应耗尽空穴路径的新型IGBT结构制造技术
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文档序号:36797629
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本发明提供了一种自适应耗尽空穴路径的新型IGBT结构,该结构在常规IGBT结构的基础上,在P型浮空区上方引入低掺杂的P
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该专利属于电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过电子科技大学授权不得商用。
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