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本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种提高掩模图形优化收敛性方法、装置及计算机设备。本发明选取第一预设区域，第一预设区域包括初始掩模版图，将第一预设区域界定为初始边界区域；将初始边界区域按照预设规律划分为预设大小的分块，按照预设次序优化初始边...
该专利属于深圳晶源信息技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳晶源信息技术有限公司授权不得商用。

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