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本申请涉及一种真空吸附机构及其控制方法和装置。真空吸附机构包括:吸盘,开设有至少3个孔单元;与孔单元的数量相同的腔体,腔体与孔单元对应连通且连接至吸附控制组件;吸附控制组件,在初始设置阶段,设置排列最中间位置的腔体为真空模式使对应的孔单元产...该专利属于无锡先导智能装备股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡先导智能装备股份有限公司授权不得商用。
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