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曝光方法包含以下步骤：读入表示如下参数与如下波长差之间的关系的数据，该参数是与利用包含第1脉冲激光和第2脉冲激光的多个脉冲激光对半导体晶片进行曝光的曝光条件有关的参数，该波长差是第1脉冲激光与第2脉冲激光的波长差；根据数据和参数的指令值决定...
该专利属于极光先进雷射株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过极光先进雷射株式会社授权不得商用。

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