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本实用新型涉及的晶圆镀镍用的辅助装置以及晶圆镀镍设备，该辅助装置包括辅助槽、进液管路、出液管路、镀镍液处理单元，其中镀镍液处理单元包括阳极、阴极、电源，镀镍液在进液管路、出液管路、辅助槽、镀镍槽之间循环流动，阳极和阴极同步浸没在位于辅助槽内...
该专利属于晟盈半导体设备（江苏）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过晟盈半导体设备（江苏）有限公司授权不得商用。

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