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本发明公开了一种基于自适应条纹的高反光工件三维点云获取方法，其包括如下步骤：1，确定饱和区域，投影少量灰度序列图像，标记饱和区域并以像素级建立对应饱和像素的表面系数查找表；步骤2，生成低强度正弦条纹，根据灰度序列图像，标记灰度序列中灰度值变...
该专利属于重庆理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过重庆理工大学授权不得商用。

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