温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种集成电路引线框架半蚀刻装置，具体涉及半导体加工技术领域，针对引线框架在化学蚀刻时，由于采用干膜显影方式进行部分区域保护，易出现曝光偏位或显影过度或显影不净的问题，导致产品外引脚蚀刻不良的问题，现提出如下方案，其包括支撑架...
该专利属于崇辉半导体（深圳）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过崇辉半导体（深圳）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。