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使用特征图像的三维掩模仿真中的掩模角圆化效应制造技术
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下载使用特征图像的三维掩模仿真中的掩模角圆化效应的技术资料
文档序号:36742005
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本公开涉及使用特征图像的三维掩模仿真中的掩模角圆化效应。光刻掩模的布局几何形状被接收。布局几何形状包括具有一个或多个圆角的至少一个形状。布局几何形状被分割为例如从库中所选择的多个特征图像。特征图像包括至少一个掩模角圆化(MCR)校正的特征图...
该专利属于美商新思科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过美商新思科技有限公司授权不得商用。
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