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本发明提供一种能够制造厚度厚且纵横比大的抗蚀图案的转印膜及具有导体图案的层叠体的制造方法。一种转印膜，其具有临时支承体和感光性组合物层，其中，感光性组合物层的平均膜厚为10μm以上，感光性组合物层包含敏化剂及重均分子量为10000以上的树脂...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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