转印膜、具有导体图案的层叠体的制造方法技术

本发明专利技术提供一种能够制造厚度厚且纵横比大的抗蚀图案的转印膜及具有导体图案的层叠体的制造方法。一种转印膜，其具有临时支承体和感光性组合物层，其中，感光性组合物层的平均膜厚为10μm以上，感光性组合物层包含敏化剂及重均分子量为10000以上的树脂，树脂包含具有交联性基团的结构单元，具有交联性基团的结构单元的含量相对于树脂的所有结构单元为30质量％以上，感光性组合物层在波长365nm下的透射率为40％以上。的透射率为40％以上。的透射率为40％以上。

【技术实现步骤摘要】
转印膜、具有导体图案的层叠体的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种转印膜及具有导体图案的层叠体的制造方法。

技术介绍

[0002]使用转印膜在任意的基板上配置感光性组合物层并经由掩模对该感光性组合物层进行曝光之后进行显影的方法，由于用于得到规定图案的工序数少而被广泛使用。
[0003]在专利文献1中公开有一种转印膜，其具有I临时支承体和感光性树脂组合物层，该感光性树脂组合物层含有包含规定的重复单元的粘合剂聚合物。
[0004]专利文献1：日本特开2010
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060891号公报
[0005]最近，要求厚度厚(约10μm以上左右)且纵横比大的抗蚀图案。
[0006]本专利技术人等尝试使用专利文献1中所记载的转印膜来形成抗蚀图案，其结果，发现了无法形成具有上述特性的抗蚀图案，需要进一步进行改良。

技术实现思路

[0007]本专利技术的课题在于提供一种能够制造厚度厚且纵横比大的抗蚀图案的转印膜。
[0008]并且，本专利技术的课题还在于提供一种具有导体图案的层叠体的制造方法。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种转印膜，其具有临时支承体和感光性组合物层，所述感光性组合物层的平均膜厚为10μm以上，所述感光性组合物层包含敏化剂及重均分子量为10000以上的树脂，所述树脂包含具有交联性基团的结构单元，所述具有交联性基团的结构单元的含量相对于所述树脂的所有结构单元为30质量％以上，所述感光性组合物层在波长365nm下的透射率为40％以上。2.根据权利要求1所述的转印膜，其中，所述感光性组合物层中所包含的除所述树脂以外的重均分子量小于10000的聚合性化合物相对于所述树脂的质量比为0.50～0.80。3.根据权利要求1或2所述的转印膜，其中，所述转印膜在所述临时支承体与所述感光性组合物层之间具有中间层。4.根据权利要求3所述的转印膜，其中，所述中间层为水溶性树脂层。5.一种具有导体图案的层叠体的制造方法，其具有：贴合工序，以权利要求1至4中任一项所述的转印膜的与所述临时支承体相反的一侧的表面与表面具有金属层的基板的所述金属层接触的方式，将所述转印膜与所述基板进行贴合；曝光工序，对所述感光性组合物层进行曝光；显影工序...

【专利技术属性】
技术研发人员：鬼塚悠，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：