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本发明涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种ECCP干法等离子刻蚀设备零备件Chamber WALL维护的工艺方法，工艺流程包括：干冰去污、化学腿膜、研磨、化抛、阳极氧化、超纯水封孔、清洗、干燥、真空包装，本发明所采用的维护方法，其阳极处理工艺所产...
该专利属于湖北仕上电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北仕上电子科技有限公司授权不得商用。

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