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防护膜组件、曝光原版、曝光装置、防护膜组件的制造方法和半导体装置的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:36737727
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本发明提供一种防护膜组件(10),其包含防护膜(12)和支撑防护膜的支撑框(14),防护膜(12)包含碳含有率为40质量%以上的碳系膜,防护膜与支撑框接触,满足下述条件1和条件2中的至少一者。〔条件1〕支撑框的与防护膜接触的面的粗糙度Ra为...
该专利属于三井化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三井化学株式会社授权不得商用。
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