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本实用新型提供了一种喷砂后清洗设备，包括机架，以及依次按序设置在机架内的上料区、碱洗区、酸洗区和下料区；上料区设有对喷砂后的硅片进行上料的上料组件，上料组件上设有多组用于放置片篮的放置位，碱洗区设有对硅片进行碱洗的多个碱洗槽，酸洗区设有对碱...
该专利属于天津环博科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津环博科技有限责任公司授权不得商用。

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