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本发明涉及一种晶圆及其制作方法，所述晶圆的制作方法包括：提供外延基板，所述外延基板包括依次层叠的衬底、牺牲层及发光叠层，所述衬底包括临近设置的第一区域和第二区域；图案化所述发光叠层和所述牺牲层，以使所述第一区域的衬底露出，并保留位于所述第二...
该专利属于重庆康佳光电技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆康佳光电技术研究院有限公司授权不得商用。

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