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本实用新型公开了一种带有栅网更换装置的等离子体刻蚀腔体，包括刻蚀腔体，所述刻蚀腔体内设有晶圆承载台，晶圆承载台上设有晶圆升降针，所述刻蚀腔体侧壁设有栅网托盘升降针，栅网托盘升降针上端承载有栅网托盘，栅网托盘上放置有栅网，所述刻蚀腔体侧壁设有...
该专利属于上海谙邦半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海谙邦半导体设备有限公司授权不得商用。

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