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基板处理液供应单元及具有其的基板处理装置制造方法及图纸
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文档序号:36701452
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本发明提供具有第一储液器和第二储液器,并且通过使第一储液器和第二储液器之间维持恒定的压差来形成流量的基板处理液供应单元及具有其的基板处理装置。所述基板处理液供应单元包括:供应储液器模块,包括向将基板处理液喷出到基板上的喷墨头单元供应基板处理...
该专利属于细美事有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过细美事有限公司授权不得商用。
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