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本发明涉及包括碗组装体的基板处理装置，根据本发明，可根据情况适当调节在上述碗之间形成的通路的间隔，同时，当向基板供给的药液或气体等的流体通过离心力进入到通过多个碗形成的通路时，可沿着上述流体的移动路径形成通路，因而液滴不会反弹，而是自然地向...
该专利属于得八益十意恩至所有，仅供学习研究参考，未经过得八益十意恩至授权不得商用。

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