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本发明提供一种可提高沉积均匀度的薄膜沉积机台，主要包括一腔体、一载台、一环形构件、一挡件及一盖环。载台及挡件位于腔体的容置空间内，其中环形构件连接载台。盖环设置在挡件的一环形凸缘，并包括至少一凸起部，其中凸起部位于盖环的内侧，并朝腔体的顶部...
该专利属于鑫天虹(厦门)科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过鑫天虹(厦门)科技有限公司授权不得商用。

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