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本申请公开一种套刻标记，包括多个材料层分别设置的对准标记，至少一个材料层上的对准标记呈圆状结构；任意两层材料层上分别设置的对准标记用于测量这两层材料层之间的对准偏差。本申请所得的对准偏差具有较高的准确性，以此校准刻蚀过程中的偏差，有利于提高...
该专利属于福建省晋华集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建省晋华集成电路有限公司授权不得商用。

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