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一种掺磷、掺砷单晶改善轴向电阻率均匀性的工艺方法技术
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下载一种掺磷、掺砷单晶改善轴向电阻率均匀性的工艺方法的技术资料
文档序号:36692388
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本发明公开了一种掺磷、掺砷单晶改善轴向电阻率均匀性的工艺方法,包括以下步骤:将炉体内的热屏的下端开口直径设置为300
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该专利属于浙江金瑞泓科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江金瑞泓科技股份有限公司授权不得商用。
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