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本发明公开了一种真空腔体碳膜清洁方法，适应于等离子镀膜装置中管道内壁碳膜的去除，所述等离子镀膜装置包括靶材、管道、磁场控制系统、引弧机构和直流弧电源，所述管道呈中空结构，所述磁场控制系统设置在所述管道外侧，包括步骤：(1)将所述直流弧电源的...
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