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本发明公开了一种用于半导体工艺腔室的加热装置和半导体设备，其中加热装置包括：反射屏，所述反射屏设置在所述工艺腔室的上方，所述反射屏具有保温性；加热元件，安装在所述反射屏靠近所述工艺腔室的一侧；旋转机构，所述旋转机构与所述反射屏连接，且所述旋...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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