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本实用新型公开了一种真空镀膜设备用检测真空压力的装置，包括检测壳体和固定壳体，所述检测壳体内活动连接有圆盘，圆盘的顶部固定连接有刻度表杆，且刻度表杆穿过检测壳体，所述圆盘的上表面固定连接有强力弹簧，且强力弹簧与检测壳体相固定，所述检测壳体的...
该专利属于赫得纳米科技重庆有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过赫得纳米科技重庆有限公司授权不得商用。

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