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本申请涉及清洁设备领域，公开了一种清洁基站，包括：底座，底座上设有清洗槽；水箱，水箱设于底座上，水箱包括一具有容纳腔的箱体和设于容纳腔内的隔离件，隔离件将容纳腔分隔为清水腔和污水腔，隔离件可在容纳腔内移动或变形，以改变清水腔和污水腔的容积；...
该专利属于普联技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过普联技术有限公司授权不得商用。

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