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防护薄膜框架、防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光方法、半导体的制造方法及液晶显示板的制造方法技术
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文档序号:36584702
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本发明提供一种防护薄膜框架1,其为框状的防护薄膜框架1,其特征在于包括防护薄膜框架本体1a、及被覆所述防护薄膜框架本体的绝缘层1b;以及提供一种防护薄膜,其包括所述防护薄膜框架1、及经由粘着剂或接着剂而设置于所述防护薄膜框架的上端面13的防...
该专利属于信越化学工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。
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