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本发明提供一种具有空气间隙的金属互连结构及其制备方法，该金属互连结构的第一电介质层中形成有互连金属柱，第二沟槽贯穿第一电介质层并位于相邻的互连金属柱之间，第二沟槽内填充有第二电介质层且第二电介质层内形成有空气间隙。该空气间隙能够有效降低介电...
该专利属于上海积塔半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海积塔半导体有限公司授权不得商用。

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