温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种制备薄层(1)的工艺，该工艺包括以下步骤：弱化步骤(S2)，该弱化步骤用于在供体基板(2)的中央部分(2c)中形成弱化区(3)，该弱化区(3)不延伸到供体基板(2)的外围部分(2p)中；接合步骤(S3)，该接合步骤将供体基板(...
该专利属于索泰克公司所有，仅供学习研究参考，未经过索泰克公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。