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本申请公开了一种气相外延生长辅助装置，包括：装置本体，可移动的设于石墨盘上方，石墨盘位于气相外延生长设备内，并且，石墨盘表面的中心区域设有片坑，片坑用于放置待生长的半导体晶圆；行走机构，连接于装置本体，并用于移动装置本体；升降机构，行走机构...
该专利属于华芯半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华芯半导体科技有限公司授权不得商用。

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