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本实用新型公开了一种半导体废水深度除氟处理装置，涉及废水除氟装置技术领域，为解决现有的半导体行业废水的深度除氟处理系统在沉淀完成后水与污泥杂质会分别导出装置内部，导出的过程中无法将水和污泥杂质进行有效的分隔，容易出现导出混杂的问题。包括包裹...
该专利属于苏州大图环境工程设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州大图环境工程设备有限公司授权不得商用。

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