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本发明涉及氧化硼制备技术领域，公开了提供了一种高纯度氧化硼制备系统及其制备工艺，包括第一坩埚、顶盖、第二坩埚、第一流体装置、第二流体装置、封闭件、压力调节装置和温度调节装置；所述顶盖可拆卸连接于所述第一坩埚的上端；所述第一流体装置包括第一管...
该专利属于广东先导微电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东先导微电子科技有限公司授权不得商用。

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