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本发明公开了一种准确控制磨抛深度的磨抛设备，包括转磨装置、压料装置和位移感测器，转磨装置包括转盘和第一驱动机构，转盘的表面具有粗糙层，第一驱动机构连接转盘的中心，第一驱动机构可驱动转盘转动；压料装置设于转磨装置上，压料装置包括压料伸缩件和第...
该专利属于东莞市东宇阳电子科技发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东莞市东宇阳电子科技发展有限公司授权不得商用。

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