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本发明公开了一种晶圆卸载方法及半导体工艺设备,该方法包括:向静电卡盘加载反向电压,并向反应腔室内通入不与晶圆反应的工艺气体,使工艺气体电离,用以中和晶圆上的残余电荷;向晶圆的背面通入预设压力的背吹气体,以将晶圆从静电卡盘表面吹起上升至第一抬...该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种晶圆卸载方法及半导体工艺设备,该方法包括:向静电卡盘加载反向电压,并向反应腔室内通入不与晶圆反应的工艺气体,使工艺气体电离,用以中和晶圆上的残余电荷;向晶圆的背面通入预设压力的背吹气体,以将晶圆从静电卡盘表面吹起上升至第一抬...