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本发明提供一种研磨时间的修正方法、系统及隔离结构的制作方法。该研磨时间的修正方法及系统中,首先获取前道研磨平台研磨第一晶圆的第一研磨时间设定值、前道研磨平台研磨第二晶圆的第二研磨时间设定值以及第n个研磨平台研磨第二晶圆的研磨时间,然后计算第...该专利属于合肥晶合集成电路股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过合肥晶合集成电路股份有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种研磨时间的修正方法、系统及隔离结构的制作方法。该研磨时间的修正方法及系统中,首先获取前道研磨平台研磨第一晶圆的第一研磨时间设定值、前道研磨平台研磨第二晶圆的第二研磨时间设定值以及第n个研磨平台研磨第二晶圆的研磨时间,然后计算第...