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本发明涉及硅舟领域，特别地，涉及一种硅部件清洗设备及清洗工艺，用于清洗硅舟，包括机架，所述机架上设有擦拭布，所述机架上还设有用于支撑所述擦拭布的气囊，所述气囊连接有用于对所述气囊充气的气泵，所述气囊沿沟棒的沟齿的排列方向阵列设有多个，所述机...
该专利属于浙江盾源聚芯半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江盾源聚芯半导体科技有限公司授权不得商用。

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