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本发明公开了一种基于应力调控的锡基钙钛矿薄膜及其制备方法、光电器件，其中，制备方法包括：将锡基钙钛矿液膜和配体溶液置于同一腔室内并通过抽气使腔室真空度低于1000Pa后停止抽气，其中，配体溶液为含胺基或巯基官能团的溶液；维持腔室密闭状态，锡...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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