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本发明涉及光刻胶技术领域，尤其是涉及一种深紫外化学放大正型光刻胶组合物和图案形成方法。深紫外化学放大正型光刻胶组合物，包括如下组分：聚合物、含有苯基的化合物、光致产酸剂、含氮化合物、表面活性剂和溶剂；聚合物包括聚合物A，聚合物A具有如式(I...该专利属于上海彤程电子材料有限公司彤程新材料集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海彤程电子材料有限公司彤程新材料集团股份有限公司授权不得商用。