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本实用新型涉及半导体设备系统设计领域，更具体的说，涉及一种射频系统。本实用新型提供一种射频系统，包括腔体、衬套、射频喷淋单元和基台：所述衬套，设置在腔体内侧；所述射频喷淋单元，设置在腔体的顶部，用于向腔体内部施加射频功率，进行等离子体喷淋处...
该专利属于拓荆科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆科技（上海）有限公司授权不得商用。

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