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本发明涉及电子前驱体纯化领域，尤其涉及硅基前驱体的提纯方法及提纯系统，所述方法，包括以下步骤：（S.1）将吸附剂分散于离子液体中，得到吸附浆料；（S.2）将工业级硅基前驱体溶于吸附浆料中，使得工业级硅基前驱体与吸附剂相接触，从而使得工业级硅...
该专利属于大连科利德光电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大连科利德光电子材料有限公司授权不得商用。

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