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本发明的基板处理装置，可以包括：基板，形成有段差；以及，腔室，在内部对基板进行处理；段差可以被膜沉积填充，还可以供应用于对膜的生长速度进行调节的抑制剂。本发明的基板处理方法，可以包括：在基板上生成内部形成有屈曲的段差的段差步骤；在段差中通过...
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