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一种半导体的结构的形成方法，方法包括：提供基底，基底包括第一介电层以及位于第一介电层中的第一导电层，基底的顶部形成有第二介电层，第一导电层侧部的第二介电层的顶部形成有硬掩膜层，硬掩膜层露出位于第一导电层顶部的第二介电层；以硬掩膜层为掩膜，去...
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