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本发明实施例提供了一种适用于激光修复体的水转印云纹光栅及制备方法，本发明实施例中水转印云纹光栅的制备方法具有简单易操作、可重复性强、耐高温等优点，可以标准化云纹光栅载体制备流程，制备的水转印云纹光栅栅距不小于100微米，非常适用于宏观物体变...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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