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本发明公开一种图形化蓝宝石复合衬底的制作方法，包括以下步骤：S1，在蓝宝石衬底上均匀涂覆一层具有SiO2成份的压印胶；S2，对带有SiO2压印胶的蓝宝石衬底进行压印；S3，压印脱模后，进行高温烘烤；S4，进行反应式离子蚀刻(RIE)，将压印...
该专利属于南昌光澜半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南昌光澜半导体有限公司授权不得商用。

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