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本发明实施例涉及一种研磨液监控装置、一种CMP系统及一种在线监控研磨液的方法。所述研磨液监控装置包含研磨液计量单元、多个光源及至少一个光学检测器。所述研磨液计量单元经配置以容纳研磨液。所述光源经配置以将光束发射于所述研磨液计量单元中的所述研...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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