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本发明涉及到针对关键尺寸量测的聚焦方法。应用于关键尺寸量测的聚焦方法要求在对晶圆上的关键尺寸实施量测之前，先进行聚焦让晶圆达到相机的焦面：由相机移动的位置数据和采集到的图像清晰度数据，藉此拟合出一个二阶曲线，需要计算出二阶曲线的顶点坐标，以...
该专利属于魅杰光电科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过魅杰光电科技（上海）有限公司授权不得商用。

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