【技术实现步骤摘要】
针对关键尺寸量测的聚焦方法
[0001]本专利技术主要涉及到集成电路关键尺寸的量测
，更确切的说，涉及到一种针对关键尺寸量测的聚焦方法或者针对关键尺寸量测聚焦技术。
技术介绍
[0002]随着集成电路工艺的发展，半导体的器件及制程变得越来越复杂。在半导体制备工艺过程中为了保证各工序的精确，半导体结构的尺寸量测是必须的环节。通常关键尺寸扫描电子显微镜量测是较常用的一种量测手段，再譬如替代性的光学关键尺寸不只可侦测出类似于光刻胶等图案的关键尺寸，还有图案剖面轮廓的相关尺寸。无论光学关键尺寸还是扫描电子显微镜亦或其他提供半导体晶圆尺寸信息的量测均涉及到对准。
[0003]关键尺寸测量经常十分依赖被测对象的拍摄或图像是否清晰，如果被测对象的图像仅仅只是一个较粗略的模糊图像，那么关键尺寸测量必然出现偏差。困扰就在于如何完成关键尺寸的精细化拍摄。现有技术往往是以粗略调光照来实现拍摄，通常扫描电子显微镜图形变得模糊不清而无法实现精确的图像，从而导致无法进行量测。或者扫描电子显微镜图形在观察时被认为是清晰的但实际上并未达到最佳...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种针对关键尺寸量测的聚焦方法，其特征在于：对晶圆上的关键尺寸实施量测之前，先进行聚焦让晶圆达到相机的焦面：由相机移动的位置数据和采集到的图像清晰度数据，拟合出二阶曲线，并计算出二阶曲线的顶点坐标以得到图像最清晰的位置。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：配置有显微镜的相机在竖轴方向上反复调整位置，记录下聚焦起始点的起始位置和初始图像清晰度，和记录下相机每次调整位置后的实时位置及实时图像清晰度；所述位置数据包括多组实时位置与起始位置的位置差值、所述图像清晰度数据包括多组实时图像清晰度与初始图像清晰度的清晰度差值。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：相机每次调整位置后，在相机处于同一位置条件下的位置差值、清晰度差值两者分别视作所述二阶曲线上的一个点同时对应的横坐标值、纵坐标值。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：计算实时图像清晰度与初始图像清晰度时，利用能量梯度函数或拉普拉斯函数来作为清晰度评价函数。5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：如果任一所述位置差值的绝对值超过一个指定行程值，则结束当前的位置调整。6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：规定一个竖轴上调整的最大次数，要求相机在竖轴方向上反复调整位置的实际调整次数不超过该最大次数。7.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：图像最清晰的位置为所述二阶曲线的顶点坐标加上聚焦起始点的起始位置。8.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：如果满足于所述二阶曲线之二次项系数小于零、顶点坐标大于零、顶点坐标小于一个定义的聚焦行程最大值，则认为聚焦成功。9.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：如果不满足所述二阶曲线之二次项系数小于零、顶点坐标大于零、顶点坐标小于一个定义的聚焦行程最大值中的任意一项，则在竖轴上移动相机一段距离后再寻找焦点。10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于：在相机多次反复调整位置的阶段，基于先后调整相机位置而得到的任意相邻两个清晰度差值作差；定义一个变量项随着位置调整次数的增加而变化，并且当前变量项等于它在前一次的值加上当前的作差结果；判断变量项是否小于零；若是，则上移一段距离后再尝试聚焦；若否，则下移一段距离后再尝试聚焦。11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于：相机相对于聚焦的起始位置而上移的一段距离等于：一个指定行程值的一半再除以当前的聚焦次数。12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于：相机相对于聚焦的起始位置而下移的一段距离等于：一个指定行程值的一半。
13.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于：将相机移动到焦点相对距离，即图像最清晰的位置减去相机的当前位置。14.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：执行多次聚焦尝试，在任意单次聚焦尝试中使相机在竖轴方向上反复调整位置。15.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：反复调整相机位置之前，将显微镜镜头接近晶圆至一个指定行程值的预定比例值。16.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：由一个步进电机来带动所述相机在竖轴方向上移动位置，并由一个控制单元来控制步进电机以操纵所述相机的移动；所述控制单元还用...
【专利技术属性】
技术研发人员：田东卫，温任华，
申请(专利权)人：魅杰光电科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。